Pembuatan atau fabrikasi lapisan tipis TiO2

Fabrikasi dilaksanakan dalam tiga tahap Tahap awal adalah menyiapkan bahan yang digunakan yaitu serbuk TiO2, substrat kaca (corning), etanol, akuades. Sedangkan alat yang digunakan adalah gelas ukur 100 ml, pengaduk, pipet, crucibel alumina, Spin Coating, Hotplate, Furnace dan, Spektrometer UV-VIS 1240 Shimadzu.Tahap kedua adalah menyiapkan larutan TiO2. Larutan TiO2 dibuat dengan konsentrasi 0,5 M. Larutan TiO2 diaduk menggunakan magnetic stirer selama 3 jam dengan laju putaran 700 rpm. Selama pengadukan gelas ukur yang berisi larutan TiO2 ditutup dengan alumunium foil. Hal ini dilakukan untuk mengurangi penguapan ketika pemutaran.Tahap ketiga pembuatan film tipis. Subtrat dibersihkan menggunakan ethanol dan selanjutnya dikeringkan menggunakan hotplate selama 5 menit dengan temperatur 100 oC. Proses pembuatan lapisan tipis dilakukan dengan cara mengambil 4 tetes larutan TiO2 untuk diteteskan pada substrat yang sudah ditempatkan pada alat spin coating. Kemudian substrat yang telah ditetesi larutan TiO2 diputar dengan kecepatan putar 137O rpm., langkah berikutnya adalah pemanasan awal (pre annealing) dengan menggunakan hotplate dengan suhu 150 oC selama 30 menit.Kemudian pemanasan (annealing) dilakukan dengan menggunakan furnace dengan suhu 500oC selama 8 jam. Proses annealing berfungsi untuk memperbaiki struktur kristal.Film Tipis TiO2 yang dihasilkan kemudian dilakukan pengukuran transmitasi menggunakan Spektrometer UVVIS. Selanjtnya spektrum transmitansi diolah menggunakan metode Tauc Plot untuk menentukan celah pita optik.