fabrikasi fiber optik

Fabrikasi Fiber Optik

Oleh:1. Handriyo Sidhi Widagdo (09)2. Nafi’ah Khoirul Latifah (13)3. Sendy Octavian Sakti (19)4. Triyanti Dyah Pertiwi (20)

TK-2A

Pengertian Fiber Optik

Fiber optik adalah saluran transmisi atau sejenis kabel yang terbuat dari kaca atau plastik yang sangat halus dan lebih kecil dari sehelai rambut, dan dapat digunakan untuk mentransmisikan sinyal berupa cahaya dari suatu tempat ke tempat lain.

Struktur Fiber Optik

Fabrikasi Fiber Optik

Pembuatan fiber optik ada 2 cara:a. Direct Meltb. Vapor Phase Oxidation

Direct Melt

• Mengikuti proses pembuatan gelas secara tradisional

• Fiber optik dibuat secara langsung dari cairan komponen gelas silika yang murni

(from molten state)

Vapor Phase Oxidation

Bahan Pembuatan:1. Uap logam halida (SiCl4) + bahan dopan

(GeCl4) + oksigen = SiO2 2. SiO2 masuk proses Sintering Preform3. Preform yang dihasilkan memiliki diameter

10-25 mm dan panjangnya 60-120 cm

Metode Vapor Phase Oxidation

Dalam Proses pembuatan fiber optik dengan cara VPO ini terdapat beberapa metode yaitu:

1. Metode OVPO (Outside Vapor Phase Oxidation) 2. Metode VAD (Vapor-phase Activated Depsition)3. Metode MCVD ( Modifided Chemical Vapor

Deposition) 4. Metode PCVD(Plasma-activated Chemical

Vapor Deposition)

Metode OVPO (Outside Vapor Phase Oxidation)

Penyambungan silinder kaca dengan cara pembakaran (burning) menggunakan Hidrogen,oksigen.Dalam proses ini menggunakan Silika dan bahan dopant (germanium).

Metode OVPO (Outside Vapor Phase Oxidation)

Pembentukan Preform Dengan Metode OVPO

Metode VAD (Vapor-phase Activated Depsition)

• Pada metode VAD, proses pembentukan partikel SiO2 sama dengan yang terjadi pada OVPO.

• Dopant yang digunakan adalah erbium, neodynium, iterbium, atau thuliyum.

Metode VAD (Vapor-phase Activated Depsition)

Pembentukan Preform Dengan Metode VAD

Metode MCVD ( Modifided Chemical Vapor Deposition)

Proses sintering oleh H2O2 burner (oxyhydrogen) yang berjalan sepanjang silica pipe sehingga diperoleh clear glass layer (sintered glass)

Metode MCVD ( Modifided Chemical Vapor Deposition)

Metode PCVD(Plasma-activated Chemical Vapor Deposition)

Proses pembentukan yang terjadi pada silica tube. Nonisothermal plasma beroperasi pada tekanan yang rendah untuk menginialisasi reaksi kimia. Silica tube berada pada temperatur 1000-1200oC untuk mengurangi tekanan. Microwave resonator yang bekerja pada 2.45 GHz berjalan sepanjang silica tube untuk menghasilkan plasma.

Metode PCVD(Plasma-activated Chemical Vapor Deposition)

Fabrikasi Fiber Optik

SEKIAN DAN TERIMAKASIH