makalah coating

8/18/2019 Makalah Coating

1/21

CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION

DISUSUN OLEH :

KELOMPOK 7

IKHLASUL AMAL (3334121757)

ACTUR SAKTIANTO NUGROHO (3334131364)

RHEA WERDANINGSIH (3334131716)

SUKMA SUCI FRIANDANI (3334131140)

IDO WISNU RAMADHAN (3334131027)

TEKNIK METALURGI

UNIERSITAS SULTAN AGENG TIRTA!ASA

2015


2/21

KATA PENGANTAR


3/21

DAFTAR ISI

H"#"$"%

HALAMAN &UDUL'''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''

KATA PENGANTAR''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''

DAFTAR ISI''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''

A I PENDAHULUAN

1'1 K*+,'''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''

1'2 P-#".,+"% L/"$'''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''''

A II CHEMICAL APOUR DEPOSITION

A III KESIMPULAN

DAFTAR PUSTAKA


4/21

A II

PENDAHULUAN

1'1 K*+,

Korosi adalah kerusakan atau degradasi logam akibat reaksi redoks

antara suatu logam dengan berbagai zat di lingkungannya yang menghasilkan

senyawa-senyawa yang tidak dikehendaki. Dalam bahasa sehari-hari, korosi

disebut perkaratan. Contoh korosi yang paling lazim adalah perkaratan besi.

Pada peristiwa korosi, logam mengalami oksidasi, sedangkan oksigen

(udara) mengalami reduksi. Karat logam umumnya adalah berupa oksida atau

karbonat. Rumus kimia karat besi adalah e!"#.n$!", suatu zat padat yang

berwarna %oklat-merah.

Korosi dapat &uga diartikan sebagai serangan yang merusak logam karena

logam bereaksi se%ara kimia atau elektrokimia dengan lingkungan. 'da

deinisi lain yang mengatakan bahwa korosi adalah kebalikan dari proses

ekstraksi logam dari bi&ih mineralnya. Contohnya, bi&ih mineral logam besi

di alam bebas ada dalam bentuk senyawa besi oksida atau besi sulida,

setelah diekstraksi dan diolah, akan dihasilkan besi yang digunakan untuk

pembuatan ba&a atau ba&a paduan. elama pemakaian, ba&a tersebut akan

bereaksi dengan lingkungan yang menyebabkan korosi (kembali men&adi

senyawa besi oksida). Ke%epatan korosi sangat tergantung pada banyak aktor,

seperti ada atau tidaknya lapisan oksida, karena lapisan oksida dapat menghalangi

beda potensial terhadap elektroda lainnya yang akan sangat berbeda bila masih

bersih dari oksida.

Korosi logam melibatkan proses anodik, yaitu oksidasi logam

men&adi ion dengan melepaskan elektron ke dalam (permukaan) logam dan

proses katodik yang mengkonsumsi elektron tersebut dengan la&u yang sama,

proses katodik biasanya merupakan reduksi ion hidrogen atau oksigen dari

lingkungan sekitarnya. Dilihat dari aspek elektrokimia, korosi merupakan proses

ter&adinya transer elektron dari logam ke lingkungannya. *ogam berlaku


5/21

sebagai sel yang memberikan elektron (anoda) dan lingkungannya sebagai

penerima elektron (katoda). Reaksi yang ter&adi pada logam yang mengalami

korosi adalah reaksi oksidasi, dimana atom-atom logam larut

kelingkungannya men&adi ion-ion dengan melepaskan elektron pada logam

tersebut. edangkan dari katoda ter&adi reaksi, dimana ion-ion dari lingkungan

mendekati logam dan menangkap elektron- elektron yang tertinggal pada logam.

+entuk-bentuk korosi dapat berupa korosi merata, korosi galanik, korosi

sumuran, korosi %elah, korosi retak tegang (stress %orrosion %ra%king), korosi

retak atik (%orrosion atiue %ra%king) dan korosi akibat pengaruh hidogen

(%orrosion indu%ed hydrogen), korosi intergranular, sele%tie lea%hing, dan

korosi erosi.

. Korosi merata adalah korosi yang ter&adi se%ara serentak diseluruh

permukaan logam, oleh karena itu pada logam yang mengalami

korosi merata akan ter&adi pengurangan dimensi yang relati besar per

satuan waktu. Kerugian langsung akibat korosi merata berupa

kehilangan material konstruksi, keselamatan ker&a dan pen%emaranlingkungan akibat produk korosi dalam bentuk senyawa yang

men%emarkan lingkungan. edangkan kerugian tidak langsung, antara lain

berupa penurunan kapasitas dan peningkatan biaya perawatan (preentie

maintenan%e).!. Korosi galanik ter&adi apabila dua logam yang tidak sama

dihubungkan dan berada di lingkungan korosi. alah satu dari logam

tersebut akan mengalami korosi, sementara logam lainnya akan

terlindung dari serangan korosi. *ogam yang mengalami korosi adalah

logam yang memiliki potensial yang lebih rendah dan logam yang

tidak mengalami korosi adalah logam yang memiliki potensial lebih

tinggi.#. Korosi sumuran adalah korosi lokal yang ter&adi pada permukaan yang

terbuka akibat pe%ahnya lapisan pasi. /er&adinya korosi sumuran ini

diawali dengan pembentukan lapisan pasi di permukaannya, pada

antarmuka lapisan pasi dan elektrolit ter&adi penurunan p$, sehingga


6/21

ter&adi pelarutan lapisan pasi se%ara perlahan-lahan dan menyebabkanlapisan pasi pe%ah sehingga ter&adi korosi sumuran. Korosi sumuran ini

sangat berbahaya karena lokasi ter&adinya sangat ke%il tetapi dalam,

sehingga dapat menyebabkan peralatan atau struktur patah mendadak.0. Korosi %elah adalah korosi lokal yang ter&adi pada %elah diantara

dua komponen. 1ekanisme ter&adinya korosi %elah ini diawali dengan

ter&adi korosi merata diluar dan didalam %elah, sehingga ter&adi

oksidasi logam dan reduksi oksigen. Pada suatu saat oksigen (" !) di

dalam %elah habis, sedangkan oksigen ("!) diluar %elah masih

banyak, akibatnya permukaan logam yang berhubungan dengan bagian

luar men&adi katoda dan permukaan logam yang didalam %elah men&adi

anoda sehingga terbentuk %elah yang terkorosi.2. Korosi retak tegang (stress corrosion cracking ), korosi retak atik

(corrosion fatique cracking ) dan korosi akibat pengaruh hidogen

(corrosion induced hydrogen) adalah bentuk korosi dimana material

mengalami keretakan akibat pengaruh lingkungannya. Korosi retak

tegang ter&adi pada paduan logam yang mengalami tegangan tarik statis

dilingkungan tertentu, seperti ba&a tahan karat sangat rentan terhadap

lingkungan klorida panas, tembaga rentan dilarutan amonia dan ba&a

karbon rentan terhadap nitrat.3. Korosi retak atik ter&adi akibat tegangan berulang dilingkungan

korosi. edangkan korosi akibat pengaruh hidogen ter&adi karena

berlangsungnya diusi hidrogen kedalam kisi paduan.4. Korosi intergranular adalah bentuk korosi yang ter&adi pada paduan

logam akibat ter&adinya reaksi antar unsur logam tersebut di batas

butirnya. eperti yang ter&adi pada ba&a tahan karat austenitik apabila

diberi perlakuan panas. Pada temperatur 0!2562oC karbida krom (Cr !#C3)

akan mengendap di batas butir. Dengan kandungan krom dibawah 7 8,

didaerah pengendapan tersebut akan mengalami korosi dan menurunkan

kekuatan ba&a tahan karat tersebut.6. Selective leaching adalah korosi yang ter&adi pada paduan logam

karena pelarutan salah satu unsur paduan yang lebih akti, seperti yang

biasa ter&adi pada paduan tembaga-seng. 1ekanisme ter&adinya korosi


7/21

sele%tie lea%hing diawali dengan ter&adi pelarutan total terhadap semua

unsur. alah satu unsur pemadu yang potensialnya lebih tinggi akan

terdeposisi, sedangkan unsur yang potensialnya lebih rendah akan larut ke

elektrolit. 'kibatnya ter&adi keropos pada logam paduan tersebut. Contoh

lain sele%tie lea%hing ter&adi pada besi tuang kelabu yang digunakan

sebagai pipa pembakaran. +erkurangnya besi dalam paduan besi tuang

akan menyebabkan paduan tersebut men&adi porous dan lemah, sehingga

dapat menyebabkan ter&adinya pe%ah pada pipa.

Dampak yang ditimbulkan korosi sungguh luar biasa. +erdasarkan

pengalaman pada tahun-tahun sebelumnya, 'merika erikat mengalokasikan

biaya pengendalian korosi sebesar 9 67-!3 milyar per tahun. Di :ndonesia,

dua puluh tahun lalu sa&a biaya yang ditimbulkan akibat korosi dalam

bidang indusri men%apai Rp. 2 trilyun . ;ilai tersebut memberi gambaran

kepada kita betapa besarnya dampak yang ditimbulkan korosi dan nilai ini

semakin meningkat setiap tahunnya karena belum terlaksananya pengendalian

korosi se%ara baik bidang indusri. Dampak yang ditimbulkan korosi dapat berupakerugian langsung dan kerugian tidak langsung. Kerugian langsung adalah

berupa ter&adinya kerusakan pada peralatan, permesinan atau stuktur

bangunan. edangkan kerugian tidak langsung berupa terhentinya aktiitas

produksi karena ter&adinya penggantian peralatan yang rusak akibat korosi,

ter&adinya kehilangan produk akibat adanya kerusakan pada kontainer, tanki

bahan bakar atau &aringan pemipaan air bersih atau minyak mentah,

terakumulasinya produk korosi pada alat penukar panas dan &aringan

pemipaannya akan menurunkan eisiensi perpindahan panasnya, dan lain

sebagainya. Pen%egahan korosi dapat dilakukan dengan berbagai ma%am teknik

sehingga dapat disesuikan dengan kebutuhan penggunanya antara lain coating

atau pelapisan, pengorbanan anoda, alloying , galvanizing , inhibitor dan lain-lain

1'2 P-#".,+"% L/"$

Pelapisan logam adalah suatu %ara yang dilakukan untuk memberikan

siat tertentu pada suatu permukaan benda ker&a, dimana diharapkan benda


8/21

tersebut akan mengalami perbaikan baik dalam hal struktur mikro maupun

ketahanannya, dan tidak menutup kemungkinan pula ter&adi perbaikan terhadap

siat isiknya. Pelapisan logam merupakan bagian akhir dari proses produksi

dari suatu produk. Proses tersebut dilakukan setelah benda ker&a men%apai

bentuk akhir atau setelah proses penger&aan mesin serta penghalusan terhadap

permukaan benda ker&a yang dilakukan. Dengan demikian, proses pelapisan

termasuk dalam kategori peker&aan inishing atau sering &uga disebut tahap

penyelesaian dari suatu produksi benda ker&a.

1a%am-ma%am pelapisan logam berdasarkan tu&uannya, antara lain<

. Pelapisan Dekorati Pelapisan dekorati bertu&uan untuk menambah keindahan tampak luar

suatu benda atau produk. ekarang ini pelapisan dengan bahan krom

sedang digemari karena warnanya yang %emerlang, tidak mudah terkorosi

dan tahan lama. Produk yang dihasilkan banyak digunakan sebagai

aksesoris pada kendaraan bermotor baik yang beroda dua maupun

pada kendaraan beroda empat. Dengan kata lain pelapisan ini hanya

untuk mendapatkan bentuk luar yang baik sa&a. *ogam-logam yang umum

digunakan untuk pelapisan dekorati adalah emas, perak, nikel dan krom.!. Pelapisan Protekti

Pelapisan protekti adalah pelapisan yang bertu&uan untuk melindungi

logam yang dilapisi dari serangan korosi karena logam pelapis

tersebut akan memutus interaksi dengan lingkungan sehingga terhindar

dari proses oksidasi.#. Pelapisan untuk iat Khusus Permukaan

Pelapisan ini bertu&uan untuk mendapatkan siat khusus permukaan

seperti siat keras, siat tahan aus dan siat tahan suhu tinggi atau

gabungan dari beberapa tu&uan diatas se%ara bersama-sama. 1isalnya

dengan melapisi bantalan dengan logam nikel agar bantalan lebih keras

dan tidak mudah aus akibat gesekan pada saat berputar.


9/21

A II

CHEMICAL APOUR DEPOSITION

Pelapisan atau %oating merupakan salah satu metode untuk mendapatkan

bentuk dan siat baru dari suatu material. $ingga saat ini ada beberapa teknologi

yang %ukup amliar dikembangkan di bidang industri. etiap &enis %oating

memilki siat hasil pelapisan yang berbeda sesuai dengan prinsip dasar


10/21

pelapisannya. $al ini yangmenyebabkan penggunaan metode %oating dalam

aplikasi industri dan riset berbedabeda. /u&uan dilakukannya pelapisan adalah

untuk memperbaiki siat ketahan aus, konduktiitas listrik, siat optik, ketahanan

korosi, kimia. $ingga saat ini ada beberapa teknologi yang %ukup amliar

dikembangkandibidang industri. +eberapa diantaranya antara lain, chemical

vapor deposition (C=D ), physical vapor deposition (P=D) , electroplating,

spraying, danspin coating.

1etode pelapisan permukaan dengan %ara mengendapkan logam

atau senyawa logam kepermukaan komponen melalui asa uap didalam be&ana

tertutup. Dua %ara, yaitu melalui dekomposisi atau reaksi kimia disekitar

permukaan komponen (C=D) atau peristiwa kondensasi isika (P=D).

>ambar .Kondisi pelapisan asa uap

C=D merupakan proses pengendapan senyawa atau unsur ter&adi

akibat reaksi dekomposisi kimia akibat aktiasi termal di seputar komponen

yangdilapisi. Pada proses C=D, substrat diletakkan di depan pada satu atau

lebihprekursor yang bereaksi pada permukaan substrat untuk menghasilkan

deposit yang diinginkan, kemudian dikeluarkan oleh aliran gas melalui reaksi

ruangan.C=D dilakukan dalam reaktor, yang terdiri dari sistem suplai reaktan

(reactant supply system), ruang deposisi (deposition chamber ), dan sistem daur

ulang (recycle/disposal system)


11/21

>ambar !. Reaktor C=D thermal

>as-gas dari sistem suplai reaktan dimasukkan ke dalam ruang deposisi.Karena temperatur %ukup tinggi, maka gas-gas tersebut akan berdekomposisi

membentuk lapisan di atas permukaan benda ker&a (substrat). *imbah bera%un,

korosi, dan atau mudah terbakar dikumpulkan dan diproses dalam sistem daur

ulang.

>ambar #. kema %hemi%al apor deposition (C=D)

+aru-baru ini, para ilmuwan telah dapat men%iptakan berlian sintetis yang

berhasil meniru kekuatan batu alam. :ni dilakukan denganmenggunakan dua

metode suhu dan tekanan yang tinggi ($P$/), serta pengendapan uap kimia

(C=D), yang mengendapkan lapisan berlian ke dalam bahandasar yang padat.

*apisan berlian yang di%iptakan dengan C=D dapat digunakan dalam berbagai

bidang seperti tribologi (ilmu pengetahuan dan teknologi gaya gesek dan

pelumasan), lapisan anti karat, elektroda, lensa optik, mesin pendingin, gas, sensor

partikel, dan pelapis untuk alat kedokteran. Pelapisan emas &uga bisa

menggunakan proses C=D. Pelapisan emas dengan C=D dapat menghasilkan


12/21

lapisan emas dengan ketebalan yang sangat tipis. Ketangguhan dari lapisan emas

bergantung padaketebalan lapisan, namun dapat ditingkatkan dengan suatu

metodetertentu. elain digunakan dalam pelapisan emas, C=D &uga

dapat digunakan untuk memproduksi intan se%ara sintetik. +erikut ini merupakan

aplikasi C! hard coating (/abel ) pada material yang berbeda-beda serta umur

pakai dan waktu perbaikannya

/abel . 'plikasi C! hard coating pada material

C=D merupakan proses yang menghasilkan lapisan %oating se%arakimiawi atau dengan reaksi kimia pada permukaaan material yang dipanaskan.

Pelapis pada proses C=D berupa gas yang akan bereaksi dengan permukaan

material saat pemanasan berlangsung dan menghasilkan lapisan yang keras serta

menghasilkan produk gas yang akan dibuang melalui reaktor, dengan persamaan

reaksi sebagai berikut<

1Cl? @ $! @ 7.2;! A 1; @ ?$Cl

1Cl? @ C$0 A 1C @ ?$Cl

Contohnya<

/iCl0 @ C$0 A /iC @ 0$Cl

/iCl0 @ B!;! @ !$! A /i; @ 0$Cl

/iCl0 @ ;$# @ B!$! A /i; @ 0$Cl

Proses C=D sangatlah kompleks dengan melibatkan reaksi antara gas

dengan permukaan. +erlangsungnya proses keseluruhan


13/21

>ambar 0. :lustrasi proses C=D

/erdapat beberapa metode C=D yang sudah diaplikasikan, antara lain<

. "tmospheric pressure C=D ('PC=D) 5 C=D, proses dilakukan pada

tekanan atmosir.!. "tomic layer C=D ('*C=D), proses C=D yang menggunakan ! &enis

precursor s ('l(C$#)# and $!"). alah satu dari precursor akan terabsorbsi

ke permukaan substrat, tetapi tidak akan terdekomposisi se%ara sempurna

tanpa precursor kedua. #recursor pertama akan terabsorbsi ke permukaa

substrat hingga konsentrasinya &enuh, namun untuk pertumbuhan lapisan

tipis hanya ter&adi ketika precursor kedua ditambahkan.#. "erosol "ssisted C=D (''C=D), precursor dikenakan pada substrat dala

bentuk gas aerosol maupun liuid aerosol. /eknik ini %o%ok untuk

digunakan utnuk precursor yang tidak mudah menguap.


14/21

0. $ot %ire C=D ($C=D) dapat pula disebut sebagai Catalytic C=D (Cat -

C=D) atau $ot &ilament C=D ($C=D).2. 'opressure C=D (*PC=D) 5 C=D, proses dilakukan pada tekanan

subatmosir. Proses pada tekanan yang rendah %enderung akan mengurangi

reaksi ase gas yang tidak diinginkan dan meningkatkan keseragaman ilm

di seluruh lapisan.3. *etalorganic C=D (1"C=D) 5 C=D, precursor yang digunakan adalah

precursor logam-organik seperti /a("C!$2).4. *icroave plasmaassisted C=D (1PC=D).6. #lasma+nhanced C=D (PC=D) 5 C=D, proses yang memanaatkan

plasma untuk meningkatkan la&u reaksi kimia precursor . 1etode PC=D

memungkinkan ter&adinya dekomposisi precursor pada suhu yang lebih

rendah.E. apid thermal C=D (R/C=D) - C=D , proses yang menggunakan lampu

pemanas atau metode lain untuk memper%epat la&u pemanasan substrat.

Pemanasan yang hanya dilakukan terhadap akan mengurangi reaksi ase gas

yang tidak diinginkan.7. emote plasmaenhanced C=D (RPC=D), prosesnya mirip dengan

PC=D. ;amun substrat tidak langsung dikenakan pada sumber plasma.. -ltrahigh vacuum C=D (F$=C=D) 5 C=D, proses berlangsung pada

tekanan yang sangat rendah, biasanya di kisaran -7 Pa.

Per%ursor yang biasanya digunakan di industri, yaitu hydrides ('i$0, 's$#),

metal alkyls ('li+u#, >at#), metal halides (3, /iCl0). Karakteristik yang harus

dimiliki oleh per%ursor, antara lain<. *iuid.!. 1emiliki olatilitas yang baik.

#. 1emiliki stabilitas termal yang baik.0. Dapat terdekomposisi se%ara sempurna.2. 1enghasilkan by-produ%t yang mudah dikeluarkan dari zona reaksi di

reaktor.3. $arganya mmurah.4. /idak bera%un dan tidak mudah terbakar.

/erdapat berbagai &enis reaktor yang digunakan sebagai tempat ter&adinya

reaksi pada proses C=D, perbedaan reaktor terletak pada sistem pengeluaran

precursor . itur-itur umum yang dimiliki oleh reaktor antara lain


15/21

. /erdapat sumber precursor .!. istem penanganan gas untuk mengontrol masuknya gas atau uap precursor

ke zona reaksi.#. /erdapat zona reaksi, biasanya dalam sel tertutup, dengan holder yang

dapat menampung substrat, dan yang dipanaskan oleh oen atau tungku,

atau dengan rekuensi radio eksternal atau radiasi inramerah.0. /erdapat sistem pembuangan, termasuk pompa akum untuk operasi pada

tekanan rendah, untuk mengeluarkan produk buangan dan pusat pengolahan

limbah dengan perangkat pemantauan limbah yang diperlukan.

Reaktor terbagi men&adi dua berdasarkan sistem pemanasannya, yaituambar 2. kematik $ot all

reactor

. Cold %all eactor

Keunggulan<a. /ekanan dan suhu dapat dikontrol.

b. Dapat digunakan plasma.%. /idak ter&adi pengendapan pada dinding reaktor.d. Reaksi gas yang tidak diinginkan ditekan.e. isiensi precursor tinggi..

Kekurangan


16/21

a. >radien temperatur yang ta&am di dekat permukaan substrat dapat

menyebabkan koneksi b. Dapat menampung satu substrat sa&a.

>ambar 3. kematik cold all reactor

/ahapan dalam proses C=D se%ara umum, yaitu<. /ransport reagen dalam asa gas ke dalam zona reaksi.!. Diusi melalui boundary layer.#. 'dsoprsi precursor pada substrat.0. #recursor berdiusi ke permukaan substrat dan berkembang membentuk

lapisan tipis.

2. Reaksi kimia pada permukaan substrat dan terbentuk ilm padat serta produk samping.

3. Desorpsi produk samping.4. Produk samping berupa gas dikeluarkan dari reaktor.


17/21

>ambar 3. kematik tahapan proses C=D

Proses C=D sangat sesuai digunakan untuk menghasilkan ilm tipis

dengan kualitas tinggi dan less defect . +erbagai &enis material dapat diendapkan

pada substrat dengan teknologi ini. ;amun, pada proses ini menghasilkan produk

sampingan berbahaya yang terbentuk selama pengolahan. Kelebihan dari C=D,

yaitu hasil lapisan yang memiliki kekerasan yang tinggi, gaya adhesi yang baik,

dan kerataan hasil lapisan yang baik.


18/21

A III

KESIMPULAN

Korosi adalah kerusakan atau degradasi logam akibat reaksi redoks

antara suatu logam dengan berbagai zat di lingkungannya yang menghasilkan

senyawa-senyawa yang tidak dikehendaki. Dampak yang ditimbulkan korosi

dapat berupa kerugian langsung dan kerugian tidak langsung. Kerugian

langsung adalah berupa ter&adinya kerusakan pada peralatan, permesinan atau

stuktur bangunan. edangkan kerugian tidak langsung berupa terhentinya

aktiitas produksi karena ter&adinya penggantian peralatan yang rusak akibat

korosi, ter&adinya kehilangan produk akibat adanya kerusakan pada kontainer,

tanki bahan bakar atau &aringan pemipaan air bersih atau minyak mentah,

terakumulasinya produk korosi pada alat penukar panas dan &aringan

pemipaannya akan menurunkan eisiensi perpindahan panasnya, dan lain

sebagainya. Pen%egahan korosi dapat dilakukan dengan berbagai ma%am teknik


19/21

sehingga dapat disesuikan dengan kebutuhan penggunanya, salah satunya adalah

coating (pelapisan logam).

Pelapisan logam adalah suatu %ara yang dilakukan untuk memberikan

siat tertentu pada suatu permukaan benda ker&a, dimana diharapkan benda

tersebut akan mengalami perbaikan baik dalam hal struktur mikro maupun

ketahanannya, dan tidak menutup kemungkinan pula ter&adi perbaikan terhadap

siat isiknya. /erdapat beberapa metode pelapisan logam, salah satunya dalah

C=D. C=D merupakan proses pengendapan senyawa atau unsur ter&adi

akibat reaksi dekomposisi kimia akibat aktiasi termal di seputar komponen

yangdilapisi. Pada proses C=D, substrat diletakkan di depan pada satu atau

lebihprekursor yang bereaksi pada permukaan substrat untuk menghasilkan

deposit yang diinginkan, kemudian dikeluarkan oleh aliran gas melalui reaksi

ruangan.C=D dilakukan dalam reaktor, yang terdiri dari sistem suplai reaktan

(reactant supply system), ruang deposisi (deposition chamber ), dan sistem daur

ulang (recycle/disposal system). >as-gas dari sistem suplai reaktan dimasukkan ke

dalam ruang deposisi. Karena temperatur %ukup tinggi, maka gas-gas tersebut

akan berdekomposisi membentuk lapisan di atas permukaan benda ker&a

(substrat). *imbah bera%un, korosi, dan atau mudah terbakar dikumpulkan dan

diproses dalam sistem daur ulang. Proses C=D sangat sesuai digunakan untuk

menghasilkan ilm tipis dengan kualitas tinggi dan less defect . +erbagai &enis

material dapat diendapkan pada substrat dengan teknologi ini. ;amun, pada

proses ini menghasilkan produk sampingan berbahaya yang terbentuk selama

pengolahan. Kelebihan dari C=D, yaitu hasil lapisan yang memiliki kekerasan

yang tinggi, gaya adhesi yang baik, dan kerataan hasil lapisan yang baik.


20/21

DAFTAR PUSTAKA

Jones, A. C, and Hitchman, M. L. 2009. Chemical Vapour

Deposition: Precursors, Processes and Applications. !:

ni"ersit# o$ Li"erpool

https


21/21

makalah coating

Documents